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EUV

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极紫外辐射（EUV）或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射，对应光子能量为10eV到124eV。自然界中，日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱，对日EUV成像望远镜，光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段，因此其传输环境需高度真空。

极紫外辐射（EUV）或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射，对应光子能量为10eV到124eV。自然界中，日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱，对日EUV成像望远镜，光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段，因此其传输环境需高度真空。收起

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  • 全线扩产仍供不应求，光刻机被抢疯了
    佳能明年半导体光刻设备产量接近今年两倍，尼康启动0.5μm数字光刻并推出后道DSP-110，ASML客户对2027年后设备需求超扩产计划，拟提升EUV/浸没式DUV产能并提价；通快EUV光源订单增长，JSR韩国MOR光刻胶工厂竣工。光刻产业扩产与升级同步，增长仍取决于交付、量产和稳定供货。
    258
    10/26 08:59
    光刻机 EUV
    全线扩产仍供不应求，光刻机被抢疯了
  • 对话北京航空航天大学林楠教授：重新定义EUV光源
    AI算力扩张加剧能效压力，EUV光刻制造能耗与碳排放显著。林楠教授创办华芯极光，提出系统效率指标，以固体激光器驱动LPP EUV光源，实验室电到EUV转换效率达量产三倍以上，但需工程化验证。产业化采用换芯不换壳、低接口迁移成本策略，先从EUV量检测光源切入形成现金流，再发展光刻光源，并通过专利布局和客户信任进入全球供应链。
    1017
    09/24 11:01
    EUV 光源
    对话北京航空航天大学林楠教授：重新定义EUV光源
  • 没有EUV，中国的先进制程能走多久？
    中国成功研发并推出7nm点点taptap安卓，打破了外界对中国无法突破先进制程技术封锁的质疑。虽然中国尚未建立与国际领先企业相同的先进制程体系，但通过优化现有技术、升级设备和推动国产化进程，实现了先进点点taptap安卓的量产。这表明，即使缺乏某些高端设备，通过创新和努力仍能克服技术障碍，持续进步。
    802
    08/26 21:18
    先进制程 EUV
  • 国产量检测要开始用EUV了
    EUV量检测技术因其高分辨率和非接触无损的特点，成为现代半导体制造的关键环节。本文介绍了三种主要的EUV光源技术路线：传统等离子体光源、加速器光源和高次谐波产生光源，并详细阐述了它们的应用场景，特别是掩模缺陷检测、晶圆量检测和材料分析等方面。国产企业在EUV光源和量检测设备研发方面取得进展，但仍面临光源性能瓶颈、产业化周期长和产业链协同要求高等挑战。随着技术的进步，国产EUV量检测设备有望在未来实现突破。
    752
    08/26 09:50
    EUV 检测设备
    国产量检测要开始用EUV了
  • 光刻机赛道闯入新玩家？EUV之外，另一条路正在铺开
    Terafab超级晶圆厂项目与马斯克的表态，让光刻机赛道的光源技术路线之争增添变数。特斯拉、SpaceX与xAI联合推进的德州Terafab超级晶圆厂项目，因一张渲染图中出现的环形结构引发外界猜测。马斯克随后在社交媒体上以“FEL FTW”作出回应，这使自由电子激光技术进入行业视野。然而，尽管FEL在物理原理上具有吸引力，但将其从加速器实验室转化为晶圆厂可用的工业设备，仍面临显著的工程与产业障碍。综合来看，Terafab初期仍需依赖ASML的高数值孔径EUV与浸没式DUV设备组合，FEL技术更可能作为中长期的技术储备和迭代方向，而非短期内可替代的成熟方案。
    1806
    08/12 09:48
    晶圆厂 光刻机
    光刻机赛道闯入新玩家？EUV之外，另一条路正在铺开
  • EUV光源为什么要用锡液滴？
    EUV光由超高功率激光轰击锡靶生成，锡原子高温下变为高电离态离子，电子跃迁释放能量形成EUV光。锡因其在13.5nm波长下的高效发光效率、高转换效率及与Mo/Si反射镜的完美匹配而成为最佳选择。液滴发生器确保连续稳定的锡供应，满足高重复频率的需求，保证EUV光输出的稳定性和控制性。
    1129
    07/25 08:12
    EUV EUV光刻
  • EUV光源的工作机理
    EUV光源系统由CO₂激光系统、光束传输、锡液滴供给、激光轰击液滴、收集镜聚焦EUVEU光、中间焦点传送至光刻机组成。CO₂激光系统负责产生并放大激光，光束传输将其导向光源腔体，锡液滴供给持续供应锡液滴，激光轰击液滴生成等离子体发光，收集镜聚焦EUVEU光，最后通过中间焦点传至光刻机进行曝光。
    866
    07/23 09:23
    EUV
    EUV光源的工作机理
  • 从技术路线到时间效率之争—EUV掩模版检测的双寡头之战
    根据分析机构FMI和Dataintelo的数据，纯EUVEUV掩模版检测市场的增量市场规模约为$6亿至$8亿美元/年，随着TSMC、Intel和Samsung向3nm/2nm及High-NA技术迈进，该市场将以每年10%至15%的复合增长率增长，预计到2030年后将达到20亿美元。参考Lasertec的官方财报数据，其净利率可达30%，属于小规模、关键节点的高利润率领域。
    3669
    06/29 10:55
    EUV 光掩膜版
    从技术路线到时间效率之争—EUV掩模版检测的双寡头之战
  • 绕过顶级EUV，晶圆一哥的底牌终于摊开
    台积电决定不采用High-NA EUV光刻机，而是通过自主研发的EUV光罩保护膜、GAAFET技术和协同微缩工艺，成功解决了点点taptap安卓微缩的核心难题。台积电通过计算光刻、优化工艺和转移难度的方式，实现了高效可靠的点点taptap安卓制造，保持了其在半导体行业的领先地位。
    1247
    05/06 10:01
    EUV EUV光刻机
    绕过顶级EUV，晶圆一哥的底牌终于摊开
  • EUV不急换代，台积电控本保利润
    近日，在台积电2026年北美技术论坛上，台积电联席副首席运营官Kevin Zhang（张晓强）明确表示，台积电将暂缓采购High-NA EUV设备，直言现阶段台积电没有任何部署这款全新高阶光刻设备的相关计划，最快要到2029年推进A13制程节点时，才会考虑导入这款下一代点点taptap安卓制造核心设备。他表示：“我们仍然能够从现有EUV设备中获益。” 谈及暂缓采购的核心缘由，张晓强表示，设备非常非常高昂的采购成本
    925
    04/29 01:09
    台积电 EUV
  • 海力士掀桌：HBM、EUV与美股定价权，一场存储战争正在爆发
    当存储厂商开始同时加杠杆、抢设备、重构估值体系，这就不再是一个行业周期，而是一场围绕 AI 核心资源的全面战争。 过去几十年，存储点点taptap安卓行业给投资者的印象总是离不开“周期”二字。价格涨了就扩产，扩产多了就过剩，过剩了就降价，周而复始，像是一个永远走不出的圆圈。厂商们像是在海边捡贝壳的孩子，潮水来了就拼命装，潮水退了就只能等待。 但最近，风向变了。当 SK 海力士宣布要去美国募资 100 亿美元，转头
    936
    03/26 22:21
    存储 HBM
  • AI引爆ASML订单：单季新增132亿欧元，还有388亿欧元未交付！
    ASML发布2025年第四季度及全年财报，营收和订单创新高，2026年一季度业绩指引优于预期，推动股价大涨。
    1238
    01/30 10:23
    ASML EUV
  • 全球疯抢光刻机
    ASML第四季度财报亮眼，新订单额超出预期，达131.58亿欧元，推动公司对2026年业绩指引上调。存储点点taptap安卓成为资本开支的主要方向，EUV订单增速强劲，预示着存储周期将持续高位。尽管当前估值较高，但中短期内ASML有望继续受益于AI基础设施建设的需求。然而，需警惕未来AI成本降低的影响，可能导致设备需求放缓。
    654
    01/29 14:05
    AI 光刻机
  • ASML发布2025年全年财报 | 净销售额327亿欧元，净利润96亿欧元
    阿斯麦（ASML）发布2025年第四季度及全年财报。2025年第四季度，ASML实现净销售额97亿欧元，毛利率为52.2%，净利润达28亿欧元；第四季度的新增订单金额为132亿欧元，其中74亿欧元为EUV光刻机订单。ASML 2025年全年净销售额达327亿欧元，毛利率为52.8%，净利润为96亿欧元。截至2025年底，ASML的未交付订单金额为388亿欧元。ASML预计2026年第一季度净销售额
    1193
    01/28 15:11
    人工智能 ASML
    ASML发布2025年全年财报 | 净销售额327亿欧元，净利润96亿欧元
  • 汤之上隆：台积电的竞争力，来自超150种EUV设备
    台积电2025年第三季度销售额和营业利润创新高，分别达到331亿美元和167.5亿美元，营业利润率回升至50%以上。台积电的销售额主要来源于3nm和5nm制程节点，尤其是5nm和3nm节点的销售额增长显著。相比之下，7nm及以下制程节点的销售额和晶圆投入量呈下降趋势。台积电的核心业务从智能手机转向人工智能半导体，高性能计算业务迅速崛起，预计到2025年将成为最大收入来源。台积电凭借强大的EUV光刻技术优势，保持领先地位，其设备数量远超竞争对手。
    1681
    2025/11/12
    半导体设备 EUV
    汤之上隆：台积电的竞争力，来自超150种EUV设备
  • ASML发布2025年第三季度财报
    净销售额75亿欧元，净利润21亿欧元；预计2025年全年净销售额将增长约15%，毛利率约为52% 阿斯麦（ASML）发布2025年第三季度财报。2025年第三季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为51.6%，净利润达21亿欧元。第三季度的新增订单金额为54亿欧元2，其中36亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第四季度净销售额在92亿至98亿欧元之间，毛利率介于51%至53%；预
    620
    2025/10/15
    dram ASML
    ASML发布2025年第三季度财报
  • 嵌入式电子的复杂世界：独立生态系统的分层迷宫
    从外部看，电子系统仿佛一个统一的学科或设备，各组成部分协同工作，浑然一体。然而揭开表象，其内在却是另一番景象：一个碎片化、多层次的世界——其中每一层都独立且复杂，衍生出各自特有的工具、专家、工作流程，甚至哲学体系。 这既是其美妙之处，也是挑战所在：它宛如一支没有指挥的管弦乐队： 每一层都如同一个独立的学科，遵循自己的创新曲线，以自身的节奏发展着。在半导体领域，我们已将技术边界推向物理极限：采用极紫
    634
    2025/08/29
    嵌入式系统 EUV
    嵌入式电子的复杂世界：独立生态系统的分层迷宫
  • ASML EUV光刻之路还能走多远？
    虽然近期台积电高管表示，台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机（具有0.5数值孔径），但是英特尔则已经决定在其下一代的Intel 14A制程上选择采用High NA EUV光刻机进行量产。与此同时，为了解决为了的1nm以下制程的制造问题，ASML正在积极的研发具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻机，这也意味着其将面临更大的技术挑战，要知道ASML花了约20年的时间才成功推动标准型EUV光刻机的规模商用。
    860
    2025/06/17
    EUV EUV光刻机
    ASML EUV光刻之路还能走多远？
  • ASML发布2025年第一季度财报 | 净销售额77亿欧元，净利润24亿欧元
    阿斯麦（ASML）发布2025年第一季度财报。2025年第一季度，ASML实现净销售额77亿欧元，毛利率为54%，净利润达24亿欧元。第一季度的新增订单金额为39亿欧元2，其中12亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第二季度净销售额在72亿至77亿欧元之间，毛利率介于50%至53%3；对2025年展望保持不变，预计全年净销售额在300亿至350亿欧元之间，毛利率介于51%至53%。 (
    558
    2025/04/16
    ASML EUV
    ASML发布2025年第一季度财报 | 净销售额77亿欧元，净利润24亿欧元
  • TEL谈半导体设备厂商的增长点
    作为一家已经有超过60年历史的老牌半导体设备厂商，TOKYO ELECTRON（简称TEL）在全球半导体产业的市场地位毋庸置疑，援引2023年的全球市场份额数据，TEL主打的十大支柱产品中，涂胶显影设备的市场占有率为90%（其中配合EUV的涂胶显影设备达到100%的市占率），干法刻蚀设备的占有率为22%，成膜设备为31%（其中原子层沉积设备为16%，化学气相沉积设备为40%，氧化扩散设备为40%）
    1520
    2025/04/07
    AI点点taptap安卓 半导体设备
    TEL谈半导体设备厂商的增长点

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